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我的位置：首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  Logitech精密材料表面處理  >  化學(xué)機(jī)械研磨拋光CMP  >  CMP Tribo臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備

臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備

CMP Tribo 臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備,The Tribo CMP system is a precision engineered, bench top solution designed with one thing in mind - the research of wafer processes, including their associated wafer, pad and slurry interactions.

  • 產(chǎn)品地址：北京市
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間：2026-04-03
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產(chǎn)品詳情

CMP Tribo 臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備簡(jiǎn)介：

The Tribo CMP system is a precision engineered, bench top solution designed with one thing in mind - the research of wafer processes, including their associated wafer, pad and slurry interactions. Primary application areas for the Tribo system are in the field of CMP planarization or delayering,

with secondary applications in the field of Tribological science and research.

CMP Tribo 臺(tái)式化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備特點(diǎn)：

Ø Superior real time analytical capabilities

Ø Consistent, repeatable performance

Ø Enhanced control at your fingertips

Ø Adaptable and portable - Logitech quality as standard

 
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